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量子体系申请高分辨率微波成像装置及其成像方法专利, 获得一维电场测量结果

金融界2025年7月14日消息,国家知识产权局信息显示,北京量子体系科技股份有限公司申请一项名为“高分辨率微波成像装置及其成像方法”的专利,公开号CN120294023A,申请日期为2024年01月。

专利摘要显示,本申请提供一种高分辨率微波成像装置及其成像方法,成像装置包括探测系统以及上位机,探测系统包括第一激光器、原子气室、第二激光器、分束器以及光电探测器。原子气室设置于待测微波场内,第一激光器产生的探测光经过分束器分为彼此平行的多束探测光,并入射至原子气室内;第二激光器产生的耦合光入射至原子气室内,并在原子气室内沿彼此平行的多个反射路径进行传输,多束探测光分别与对应的反射路径上的耦合光重合并相向传输,待测微波场使探测光在强度上产生光谱分裂,光谱分裂的间距与待测微波场的电场强度成正比;光电探测器对多束探测光的强度进行检测,上位机计算得到每束探测光对应位置的待测微波场的电场强度以获得一维电场测量结果。

天眼查资料显示,北京量子体系科技股份有限公司,成立于2016年,位于北京市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本480.2608万人民币。通过天眼查大数据分析,北京量子体系科技股份有限公司共对外投资了2家企业,参与招投标项目1次,财产线索方面有商标信息13条,专利信息9条,此外企业还拥有行政许可3个。

本文源自:金融界